Resumen de Estudio de películas aislantes de silicio, oxígeno y nitrógeno depositadas por plasma ECR-CVD

María Jesús Hernández Muñoz

• Estudio de las propiedades opticas y electricas de peliculas de oxido, nitruro y oxinitruros depositadas sobre silicio mediante deposito en fase vapor asistido por plasma de resonancia ciclotron de electrones. Entre las propiedades estudiadas figuran la velocidad de deposito, el indice de refraccion, la composicion y la densidad de carga, evaluadas mediante elipsometria espectroscopica, espectroscopia IR, tecnicas electricas capacitativas y conductivas.