Resumen de Engineering scalable modelling languages
Antonio Garmendia
El Desarrollo de Software Dirigido por Modelos (MDE, por sus siglas en inglés) tiene como objetivo reducir los costes en el desarrollo de aplicaciones, elevando el nivel de abstracción con el que actualmente trabajan los desarrolladores. Las soluciones basadas en MDE frecuentemente involucran la creación de Lenguajes de Modelado de Dominio Específico (DSML, por sus siglas en inglés). Aunque la definición de los DSMLs y sus entornos gráficos de modelado son actividades recurrentes en MDE, actualmente en la mayoría de los casos se desarrollan ad-hoc desde cero. La construcción de estos entornos requiere una alta experiencia por parte de los desarrolladores, que deben realizar un gran esfuerzo para construirlos.
Esta tesis se centra en el desarrollo de entornos de modelado escalables para DSML basados en patrones. Para ello, se propone un catálogo de patrones de modularidad que se pueden utilizar para extender un lenguaje de modelado con servicios relacionados con la modularización y la escalabilidad. Específicamente, los patrones permiten definir estrategias de fragmentación de modelos, reglas de alcance y visibilidad, servicios de indexación de modelos y restricciones de alcance. Una vez que los patrones se han aplicado al meta-modelo de un lenguaje de modelado, se puede generar automáticamente un entorno de modelado personalizado enriquecido con los servicios definidos, que se vuelven aplicables tanto a los modelos monolíticos existentes, como a los nuevos modelos.
Una segunda contribución de esta tesis es la propuesta de conceptos y tecnologías para facilitar la creación de editores gráficos. Para ello, definimos heurísticas que identifican estructuras en la sintaxis abstracta de los DSMLs y asignan automáticamente su representación en el diagrama. Usando este enfoque, los desarrolladores pueden crear una representación gráfica por defecto a partir de un meta-modelo.
Estas contribuciones se implementaron en dos plug-ins de Eclipse llamados EMFSplitter y EMF-Stencil. Por un lado, EMF-Splitter implementa el catálogo de patrones y, por otro lado, EMF-Stencil implementa las heurísticas y la generación de un entorno de modelado gráfico. Ambas herramientas se han evaluado con diferentes casos de estudio para demostrar su versatilidad, eficiencia y capacidades.
