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Simulación estacionaria de una colada de silicio

  • Alfredo Bermúdez [1] Árbol académico ; Javier Bullón [2] ; Francisco Pena [1] Árbol académico
    1. [1] Universidade de Santiago de Compostela

      Universidade de Santiago de Compostela

      Santiago de Compostela, España

    2. [2] Ferroatlántica I+D. Polígono de Sabón. Arteixo, A Coruña
  • Localización: XVII Congreso de Ecuaciones Diferenciales y Aplicaciones ; VII Congreso de Matemática Aplicada: Salamanca, 14-28 septiembre 2001 / coord. por Luis Ferragut Canals Árbol académico, Anastasio Pedro Santos Yanguas Árbol académico, 2001, ISBN 8469961446, págs. 681-682
  • Idioma: español
  • Texto completo no disponible (Saber más ...)
  • Resumen
    • En este trabajo se modela el comportamiento térmico de una colada de silicio. Se plantea un modelo estacionario bidimensional para la temperatura y se propone un algoritmo para su resolución. Se contempla el movimiento y cambio de estado del silicio, así como una resistencia térmica entre el silicio y la plancha de cobre sobre la que solidifica.


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