Santiago de Compostela, España
, Anastasio Pedro Santos Yanguas
, 2001, ISBN 8469961446, págs. 681-682En este trabajo se modela el comportamiento térmico de una colada de silicio. Se plantea un modelo estacionario bidimensional para la temperatura y se propone un algoritmo para su resolución. Se contempla el movimiento y cambio de estado del silicio, así como una resistencia térmica entre el silicio y la plancha de cobre sobre la que solidifica.
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